OpTaliX - 鬼像分析

OpTaliX提供最真實準確的鬼像分析。通過分析所有可能的透鏡表面，軟件所提供的全自動搜索功能有助於分析鬼像產生的原因。它包含在光學表面，因材料吸收及漸暈中的多層膜波長的相關影響而產生。下圖呈現的是在透鏡中包含AR材料和吸收10鏡頭元素目標所呈現的鬼像。

鬼像分析是基於內置的逆光線追跡算法，它不需要重建光學系統，只要插入和復制表面，就可以表示鬼像路徑。它允許瞬時鬼像分析，也可以用非常快速的方法去確定最大幹擾的表面組合。

鬼像是由於光學系統對表面間進行分析，形成了意想不到的圖像。透鏡表面具有的反射光強度取決於應用於這些表面的玻璃折射率本身的增透膜類型。透鏡內表面的光反射將被再次反射，可能形成靠近成像表面的圖像。這樣虛擬的圖像被稱為鬼像。

表面可能的組合數有助於n（n-1）/2的鬼像，其中n指在系統裏透鏡表面的數值。表面數值增長，鬼像概率也隨之增長。例如，10透鏡的變焦鏡頭可能產生190 的鬼像。

不同於其他光學設計程序，OpTaliX不要求預選傳軸基礎和最大幹擾的鬼面對（如果不是全部出錯這可能是極具誤導性的），不需要建立每個鬼面對的設計，也不需要編寫宏去存儲大量數據到文件中，或根據需要在其他軟件包顯示外部程序提供的數據。

OpTaliX完全可以避免和效率低下的工作。註意下圖呈現的是從零開始，約20 分鐘，1.7 GHz 的奔騰機，包含所有的表面組合體，AR材料和對吸收的影響。而在其他程序中妳將需要幾小時或幾天去創建和測試宏和軟件的接口。

示例表明的是在壹個徑向內元件的鬼線追跡，第壹次的反射發生在表面三而第二次的反射發生在表面二。表面數值說明更多虛擬表面不需要模擬鬼路徑。由此可見，鬼像分析是瞬時的。